«»

Вакуумный участок добился нового качества оптических покрытий

Как известно, для производства оптических элементов широко применяются тонкопленочные покрытия, получаемые вакуумными методами испарения. Свойства этих покрытий существенно улучшаются при использовании предварительной очистки подложек ионным пучком и ионного ассистирования в процессе их изготовления.

На вакуумном участке оптического цеха разработана и внедрена технология нанесения ряда покрытий с использованием источника ионного ассистирования и очистки подложек ионным пучком. Применение данного метода позволило улучшить прочностные и спектральные характеристики ряда покрытий, а также существенно снизить поглощение в оптических покрытиях, нанесенных из оксидных материалов.

На графике в качестве примера приводятся спектральные характеристики зеркального покрытия на основе алюминия с защитой моноокисью кремния SiO, нанесенного без источника (1) и с источником ионного ассистирования (2). Применение источника позволило значительно уменьшить полосу поглощения в области спектра 2,5 - 3,5 мкм. Аналогичный результат получен в области спектра 9 - 11 мкм.